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J-GLOBAL ID：201702235279156037   Reference number：17A0306073

Effects of Trace Metal Ion on Potentiostatic Electrodeposition of Aluminum

定電位法を用いたAl電析における微量金属添加効果

Author (5)： WATANABE NOBUAKI (関東学院大 理工) ,  SHIMOJI IPPEI (関東学院大 理工) ,  ITO YUYA (関東学院大 理工) ,  ARAKAWA TOMIYUKI (関東学院大 工総研) ,  KOIWA ICHIRO (関東学院大 理工)
Material： 材料の科学と工学  (Materials Science and Technology of Japan)
Volume： 54  Issue： 1  Page： 22-26  Publication year： Feb. 20, 2017 
JST Material Number： G0788A  ISSN： 1347-4774  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *electrodeposition ,  *additive effect ,  *Aluminum ,  *molybdenum chloride ,  morphology (form) ,  *surface quality ,  electron microscopy ,  energy dispersive X-ray spectrometry ,  voltage dependence ,  orientational order ,  nucleation ,  *specular reflection ,  surface profile
Semi thesaurus term： *specular gloss

JST classification (2)： Electrochemical reaction  (CB07050F) ,  Solid-gos interface in general.  (CB12041H)

Substance index (2)： Dimethyl sulfone ,  Alcuronium chloride

Reference (14)：

• M. Schlötter, U. S. Patent 1,972,693 (1934).
• L. Weisberg and W. B. Stoddard, Jr., U.S. Patent 2,026,718 (1936).
• L. W. Austin, M. G. Vucich, E. J. Smith, Electrochem. Technol., 1, 267 (1963).
• F. Endres, M. Bukowski, R. Hempelmann, and H. Natter, Angew. Chem., Int. Ed., 42, 3428 (2003).
• A. Endo, M. Miyake, and T. Hirato, Electrochim. Acta, 137, 470 (2014).

Terms in the title (5)： 電位 ,  Al ,  電析 ,  微量金属 ,  添加効果