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J-GLOBAL ID：201702235643507100   Reference number：17A1449669

大気圧低温プラズマを用いて作製したAZO/ZnO膜の水添加による特性変化

Author (3)： ISHIHARA TAKUMI (香川高専) ,  SUZAKI YOSHIFUMI (香川大) ,  SHIKAMA TOMOKAZU (香川高専)
Material： 電気関係学会四国支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Shikoku-Section Joint Convention Record of the Institutes of Electrical and Related Engineers (CD-ROM))
Volume： 2017  Page： ROMBUNNO.11-16  Publication year： Sep. 16, 2017 
JST Material Number： L1738B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *atmospheric plasma ,  *zinc oxide ,  *thin film ,  *Water ,  *addition (annex) ,  radical ,  Hydrogen ,  annealing (heat treatment) ,  electrical resistivity ,  *low temperature atmospheric pressure plasma ,  hydrogen radical ,  *ZnO film
Semi thesaurus term： *Al-doped ZnO ,  *ZnO thin film

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (5)： 大気圧低温プラズマ ,  作製 ,  Azo ,  ZnO ,  水