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J-GLOBAL ID：201702240995775604   Reference number：17A0084908

Thin film growth of multiferroic La_0.8Bi_0.2Fe_0.7Mn_0.3O₃ on LaNiO₃ using RF sputtering and its characterization

高周波スパッタリングを使用してのLaNiO₃上のマルチフェロイックLa_0.8Bi_0.2Fe_0.7Mn_0.3O₃の薄膜成長と特性化

Author (3)： Anjum G. (Department of Physics, Central University of Kashmir, Srinagar 190004, J&K, India) ,  Bhat F.H. (Department of Physics, Islamic University of Science and Technology, Awantipora 192122, India) ,  Kumar Ravi (Beant College of Engineering and Technology, Gurdaspur, Punjab 143521, India)
Material： Materials Letters  (Mater Lett)
Volume： 185  Page： 112-114  Publication year： Dec. 15, 2016 
JST Material Number： E0935A  ISSN： 0167-577X  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ferroelectrics ,  *ferrimagnet ,  *manganate ,  lanthanum compound ,  bismuth compound ,  buffer layer ,  film production ,  magnetron sputtering ,  surface quality ,  ferroelectricity ,  ferrimagnetism ,  ceramic membrane ,  magnetic ferroelectric
Semi thesaurus term： multi-ferroic

Author keywords (5)： Thin films ,  Structural ,  Dielectrics ,  Ferroelectric ,  Magnetization

JST classification (2)： Magnetic properties of oxides  (BM06050E) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (5)： 高周波スパッタリング ,  LaNiO3 ,  マルチフェロイック ,  薄膜成長 ,  特性化