Art

J-GLOBAL ID：201702243010672236   Reference number：17A0002378

Monitoring and Analyses of Substrate Surface in First Stages of Graphene Growth by Plasma Enhances Chemical Vapor Deposition

プラズマ化学気相堆積により成長されたグラフェンの第一ステージにおける基板表面の監視および分析

Author (5)： KAWANO M. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  YAMADA J. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  KAWAMURA Y. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  ISHIDOSHIRO S. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN) ,  HAYASHI Y. (Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
Material： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proc Int Symp Dry Process)
Volume： 37th  Page： 87-88  Publication year： 2015 
JST Material Number： Y0378B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,  *graphene ,  *thin film growth ,  substrate (plate) ,  monitoring ,  analysis (separation) ,  surface ,  ellipsometry

JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D)

Terms in the title (6)： プラズマ化学気相堆積 ,  成長 ,  グラフェン ,  ステージ ,  基板表面 ,  分析