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J-GLOBAL ID：201702257574922868   Reference number：17A1449900

元素ブロック材料の未来展望 シロキサン系元素ブロック材料の創製

Author (1)： GUNJI TAKAHIRO (東京理大 理工)
Material： 化学工業  (Chemical Industry)
Volume： 68  Issue： 11  Page： 842-848  Publication year： Nov. 01, 2017 
JST Material Number： F0101A  ISSN： 0451-2014  CODEN： KAKOA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： material ,  *polysilsesquioxane ,  chemical synthesis ,  membrane and film ,  transmissivity ,  *oligomer ,  *organic-inorganic polymer hybrid ,  polycondensation ,  Hydrolysis ,  polymer membrane ,  covering ,  gas separation ,  membrane separation ,  free standing film ,  porous film ,  *polyhedral oligomeric silsesquioxane
Semi thesaurus term： 元素ブロック材料 ,  *POSS(oligomer)

JST classification (2)： Inorganic polymers  (YH07140R) ,  Reaction of polymers with low molecular weight compounds  (CG03020L)

Substance index (1)： Triethoxysilane

Terms in the title (5)： 元素 ,  未来 ,  展望 ,  シロキサン ,  創製