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J-GLOBAL ID：201702268447185518   Reference number：17A0324927

The effects of the photo-induced proton generation on the assembly formation of dual-temperature and pH responsive block copolymers

二重温度及びpH応答性ブロック共重合体の集合体形成に及ぼす光誘起プロトン生成の影響【Powered by NICT】

Author (4)： Kotsuchibashi Yohei (International Center for Young Scientists (ICYS) and International Center for Materials Nanoarchitectonics (WPI-MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan) ,  Takiguchi Tomomi ,  Ebara Mitsuhiro ,  Aoyagi Takao
Material： Polymer Chemistry  (Polym Chem)
Volume： 8  Issue： 1  Page： 295-302  Publication year： 2017 
JST Material Number： W2349A  ISSN： 1759-9954  CODEN： PCOHC2  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： The effects caused by photo-in...

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Thesaurus term： ultraviolet radiation ,  micelle ,  *block copolymer ,  photoacid generator ,  *Polymerization ,  proton shift ,  ultraviolet irradiation ,  hydrophobic ,  nano particle ,  aggregation ,  *proton ,  self-organizing ,  *response characteristic ,  drug delivery system ,  *photo-induced

JST classification (2)： Copolymerization  (CG04030D) ,  Micelle  (CB11020N)

Terms in the title (5)： pH応答性 ,  ブロック共重合体 ,  集合体 ,  光誘起 ,  プロトン