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J-GLOBAL ID：201702286231952023   Reference number：17A0432467

親/疎水性の平滑表面におけるイオン液体の潤滑特性評価

Author (5)： SUZUKI TAKATO (鶴岡工高専) ,  ARAFUNE HIROYUKI (鶴岡工高専) ,  KAMIJO TOSHIO (鶴岡工高専) ,  MORINAGA TAKASHI (鶴岡工高専) ,  SATO TAKAYA (鶴岡工高専)
Material： 日本表面科学会東北・北海道支部講演会講演予稿集  (日本表面科学会東北・北海道支部学術講演会講演予稿集)
Volume： 2016  Page： 35-36  Publication year： Mar. 09, 2017 
JST Material Number： F1026A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： glass ,  thin film ,  epoxy resin ,  silicon ,  *substrate(plate) ,  plasma etching ,  surface structure ,  surface quality ,  chemical machining ,  *hydrophilicity ,  silane coupling agent ,  organosilicon compound ,  aliphatic chlorine compound ,  *hydrophobic ,  contact angle ,  water ,  *lubrication ,  friction coefficient ,  *frictional force ,  *ionic liquid ,  ammonium compound ,  fluoroborate
Semi thesaurus term： tetrafluoroborate ,  lubrication characteristic ,  hydrophilization

JST classification (2)： Lubrication in general  (QB02010S) ,  Molten salts  (CB05050R)

Substance index (4)： Trifluoromethanesulfonamide ,  DEME-BF4 ,  [DEME][TFSI] ,  Octadecyldimethylchlorosilane

Terms in the title (6)： 親 ,  疎水性 ,  平滑表面 ,  イオン液体 ,  潤滑 ,  特性評価