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J-GLOBAL ID:201703001083659984
光水分解反応用電極およびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
特許業務法人栄光特許事務所
, 濱田 百合子
, 古館 久丹子
, 山崎 智子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2014503520
Patent number:6082728
Application date: Mar. 06, 2013
Claim (excerpt):
【請求項1】 光触媒層と、集電層と、前記光触媒層および前記集電層の間に設けられた半導体または良導体を含むコンタクト層と、を備え、
前記光触媒層が、本質的に光触媒粒子から成り、
前記コンタクト層が、前記光触媒層の前記集電層側の表面形状に沿って設けられている、光水分解反応用電極。
IPC (10):
B01J 35/02 ( 200 6.01)
, C25B 11/06 ( 200 6.01)
, B01J 27/24 ( 200 6.01)
, C01B 3/04 ( 200 6.01)
, C01B 21/06 ( 200 6.01)
, B01J 37/02 ( 200 6.01)
, C25B 1/04 ( 200 6.01)
, C25B 9/00 ( 200 6.01)
, C01G 23/00 ( 200 6.01)
, H01M 8/0606 ( 201 6.01)
FI (10):
B01J 35/02 J
, C25B 11/06 ZAB A
, B01J 27/24 M
, C01B 3/04 A
, C01B 21/06 A
, B01J 37/02 301 P
, C25B 1/04
, C25B 9/00 A
, C01G 23/00 Z
, H01M 8/06 R
Patent cited by the Patent:
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