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J-GLOBAL ID：201703003044099206

光学異方性高分子膜、有機EL表示装置及び液晶表示装置の製造方法

Inventor： 河村 丞治 ,  佐藤 治 ,  奥野 晴美 ,  宍戸 厚 ,  久野 恭平
Applicant, Patent owner： エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (4)： 曾我 道治 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏 ,  飯野 智史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016089011
Publication number (International publication number)：2017198823
Application date： Apr. 27, 2016
Publication date： Nov. 02, 2017
Summary：

【課題】周囲雰囲気に影響されることなく空気中でも光重合反応を行うことができ、しかも未硬化及び白濁化が起こり難い光学異方性高分子膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光学異方性高分子膜の製造方法は、メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物と、2官能性オキセタン化合物及び/又は界面活性剤とを含む光重合性組成物を基材に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対して露光部を連続的に変化させながら光照射する工程とを含むことを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物と、2官能性オキセタン化合物及び/又は界面活性剤とを含む光重合性組成物を基材に塗布して塗膜を形成する工程と、 前記塗膜に対して露光部を連続的に変化させながら光照射する工程と を含むことを特徴とする光学異方性高分子膜の製造方法。

IPC (5)：

G02B 5/30 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/02 ,  C08G 65/18

FI (5)：

G02B5/30 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/02 ,  C08G65/18

F-Term (23)：

2H149AA02 ,  2H149AA18 ,  2H149AB02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB06 ,  2H149DB15 ,  2H149FA24Y ,  2H149FA52Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FD25 ,  2H149FD48 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC32 ,  3K107CC45 ,  3K107EE26 ,  3K107FF14 ,  3K107FF15 ,  3K107FF17 ,  3K107GG26 ,  4J005AA07 ,  4J005BB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 置換ビフェニル、ターフェニル誘導体およびその重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-044381   Applicant：チッソ石油化学株式会社