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J-GLOBAL ID:201703003329381126

細胞処理方法、レーザ加工機、細胞培養容器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 赤澤 一博
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2016522839
Patent number:6090891
Application date: Mar. 25, 2016
Summary:
【要約】 高速かつ短時間のレーザ照射処理を通じて、培養容器上で培養された細胞のうちの特定の細胞を致死させるべく、容器本体にレーザ光の照射を受けてこれを吸収する材料を含む層である被照射層が設けられた培養容器の被照射層の表面上で細胞を培養するとともに、当該被照射層における、致死させるべき特定の細胞の直下の箇所にレーザ光を照射するようにした。
Claim (excerpt):
【請求項1】容器本体にレーザ光の照射を受けてこれを吸収し細胞を死に至らしめる熱を生じさせる材料を含む層である被照射層が設けられた細胞培養容器の被照射層の表面上で培養された細胞のうちの特定の細胞を致死させる方法であって、 前記被照射層における致死させるべき細胞の直下の箇所にレーザ光を照射する細胞処理方法。
IPC (4):
C12N 1/00 ( 200 6.01) ,  C12M 1/00 ( 200 6.01) ,  C12M 1/42 ( 200 6.01) ,  C12Q 1/02 ( 200 6.01)
FI (4):
C12N 1/00 N ,  C12M 1/00 A ,  C12M 1/42 ,  C12Q 1/02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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