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J-GLOBAL ID:201703003771848190

水素生成システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 渡邊 喜平 ,  中山 真一 ,  岡本 和道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015115994
Publication number (International publication number):2016175821
Application date: Jun. 08, 2015
Publication date: Oct. 06, 2016
Summary:
【課題】有機ハイドライドから水素を効率よく生成することができ、その際のエネルギー損失も少なく、省エネルギーの水素生成システムを提供する。【解決手段】金属担持触媒の存在下にマイクロ波を照射して、有機ハイドライドから水素を生成する水素生成システムであって、金属担持触媒が充填された反応容器11と、反応容器11に有機ハイドライドを供給する有機ハイドライド供給部12と、マイクロ波を反応容器11に照射するマイクロ波供給部20とを備え、有機ハイドライド供給部12により、有機ハイドライドを流速0.3〜0.7mL/分で反応容器11に供給する。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
金属担持触媒の存在下にマイクロ波を照射して、有機ハイドライドから水素を生成する水素生成システムであって、 前記金属担持触媒が充填された反応容器と、 前記反応容器に前記有機ハイドライドを供給する有機ハイドライド供給部と、 前記マイクロ波を前記反応容器に照射するマイクロ波供給部と を備え、 前記有機ハイドライド供給部により、前記有機ハイドライドを流速0.3〜0.7mL/分で前記反応容器に供給することを特徴とする水素生成システム。
IPC (2):
C01B 3/26 ,  B01J 23/44
FI (2):
C01B3/26 ,  B01J23/44 M
F-Term (17):
4G140DA03 ,  4G140DB04 ,  4G140DC03 ,  4G140DC07 ,  4G169AA03 ,  4G169AA11 ,  4G169AA15 ,  4G169BA08B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC72B ,  4G169CC40 ,  4G169DA06 ,  4G169EA01X ,  4G169EA01Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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