Pat
J-GLOBAL ID:201703004714235153

光断層イメージング法、その装置およびプログラム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 志賀 正武 ,  森 隆一郎 ,  飯田 雅人 ,  大浪 一徳
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2016554025
Patent number:6214020
Application date: Sep. 17, 2015
Claim (excerpt):
【請求項1】 測定光と参照光との干渉光の情報により被測定対象の断層画像を生成するスペクトル強度干渉断層イメージング法であって、 光源と参照ミラーと分波合波器と分光素子と検出器とコンピュータ(表示装置付き)、および測定光と参照光の間に位相差πを発生させる手段を備え、 分光素子と検出器によって分光器が構成され、 光源から射出された光を分波合波器で分波し、 一の分波光が被測定対象に入射して反射した測定光と、他方の分波光が参照ミラーで反射した参照光とを、再び該分波合波器で合波して干渉させた干渉光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、 続いて、該測定光と、該参照光とを前記手段によりその光行路で位相差πだけずらし、再び該分波合波器で合波して干渉させた光のスペクトル干渉縞強度の情報を分光器によって取得し、 当該時系列に取得した2のスペクトル干渉縞強度の情報に基づいてフーリエ変換演算処理を行い、その結果得た複素数の虚部の信号位置の2倍の距離に現れた実部の信号位置から、被測定対象の断層画像を生成することを特徴とするスペクトル強度干渉断層イメージング法。
IPC (1):
G01N 21/17 ( 200 6.01)
FI (1):
G01N 21/17 630

Return to Previous Page