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J-GLOBAL ID：201703007637702389
酸化チタンナノ構造体の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
須田 篤
, 楠 修二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016068460
Publication number (International publication number)：2017178672
Application date： Mar. 30, 2016
Publication date： Oct. 05, 2017
Summary：
【課題】室温・大気下で完了することができ、10nm以下の膜厚を有し、なおかつサブナノメートルスケールでの膜厚制御性を有し、なおかつ、サブマイクロメートルスケールでの微細パターン構造を有する酸化チタンナノ構造体からなるコーティングを簡便に製造することができる酸化チタンナノ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成した高分子チタン含有錯体の単分子膜またはその積層膜を、フォトマスクを通した紫外光照射によって光酸化することにより、酸化チタン超薄膜からなるナノパターンを得る。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
一般式(a)
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (3)：
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CD02
