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J-GLOBAL ID：201703007953680087

特定構造を有する化合物およびこれを含む感光性組成物

Inventor：
土井 貴史

About 土井 貴史

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ロジャンスキー イーゴリ

About ロジャンスキー イーゴリ

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西村 功

About 西村 功


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 特許業務法人SSINPAT
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015077815
Publication number (International publication number)：2016196441
Application date： Apr. 06, 2015
Publication date： Nov. 24, 2016
Summary：
【課題】感光性組成物の含有成分として好適な新規な化合物の提供。【解決手段】式(1)で表される化合物。[R1及びR2は芳香族環に結合する1価の有機基;a及びbは0〜4;nは1〜10;R3はn価の有機基]【選択図】なし
Claim (excerpt)：
式(1)で表される化合物。
IPC (2)：
C07D 265/16 ,  G03F 7/004
FI (2)：
C07D265/16 ,  G03F7/004 521
F-Term (23)：
2H125AN32P ,  2H125AN56P ,  2H125AN88P ,  2H125CA12 ,  2H125CB05 ,  2H125CC05 ,  2H125FA14 ,  2H225AN32P ,  2H225AN56P ,  2H225AN88P ,  2H225CA12 ,  2H225CB05 ,  2H225CC05 ,  2H225CD14 ,  4C056AA02 ,  4C056AB01 ,  4C056AC02 ,  4C056AD03 ,  4C056AE02 ,  4C056AF01 ,  4C056DA01 ,  4C056DB01 ,  4C056DC07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-107032   Applicant：国立大学法人横浜国立大学
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-250411   Applicant：国立大学法人横浜国立大学, 独立行政法人産業技術総合研究所
  • 特開平3-092860
Cited by examiner (3)
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-107032   Applicant：国立大学法人横浜国立大学
  • パターン形成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-250411   Applicant：国立大学法人横浜国立大学, 独立行政法人産業技術総合研究所
  • 特開平3-092860
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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