Pat

J-GLOBAL ID：201703009409500752

ヘキサチオペンタセン化合物及びその製造方法、並びにそれを含むゲル

Inventor： 高口 豊 ,  田嶋 智之 ,  西濱 拓也 ,  林 勇樹
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 岡山大学
Agent (2)： 中務 茂樹 ,  伊藤 俊一郎
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013153089
Publication number (International publication number)：2015020998
Patent number：6179011
Application date： Jul. 23, 2013
Publication date： Feb. 02, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 下記式(1)で示されるヘキサチオペンタセン化合物と沸点140°C以上の高沸点有機溶媒を含むゲル。 [式中、R1、R2、R3及びR4は、下記式(2a)で示される置換基である。] [式中、R5はメチル基である。]

IPC (5)：

C07D 495/22 ( 200 6.01) ,  H01L 51/05 ( 200 6.01) ,  H01L 51/30 ( 200 6.01) ,  H01L 51/40 ( 200 6.01) ,  H01L 51/46 ( 200 6.01)

FI (5)：

C07D 495/22 ,  H01L 29/28 100 A ,  H01L 29/28 250 H ,  H01L 29/28 310 J ,  H01L 31/04 154 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 有機光電変換素子の製造方法及び有機光電変換素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-234987   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社
• ヘキサチアペンタセン化合物及びその製造方法、並びにそれからなる光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-136445   Applicant：国立大学法人岡山大学
• 溶解性の高いペンタセン化合物およびそれを用いた有機半導体素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-238078   Applicant：国立大学法人岡山大学, チッソ株式会社, チッソ石油化学株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 2,9位に置換基をもつヘキサチオペンタセンの合成と性質
• J. Am. Chem. Soc., 2006, Vol.128, No.49, p.15576-15577
• Nano Lett., 2007, Vol.7, No.3, p.668-675