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J-GLOBAL ID：201703010980308875

計測装置、方法及びプログラム

Inventor： 伊藤 勇太 ,  関 晃仁 ,  下山 賢一 ,  伊藤 聡 ,  山崎 雅起
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 特許業務法人酒井国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012250460
Publication number (International publication number)：2014098625
Patent number：6214867
Application date： Nov. 14, 2012
Publication date： May. 29, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】光線を物体に照射し、前記物体の被照射点までの距離、及び前記被照射点の反射強度を計測する計測部と、 前記物体の画像を得る撮像部と、 前記被照射点の方向及び前記距離、並びに前記計測部と前記撮像部との校正情報を用いて、前記被照射点が前記画像上で投影される推定投影位置を推定する推定部と、 前記被照射点の前記反射強度と当該被照射点と異なる被照射点の前記反射強度との変化量を示す反射強度変化量を算出し、算出した前記反射強度変化量が第1条件を満たす被照射点である反射強度変化点を求めるとともに、前記推定投影位置の輝度と当該推定投影位置と異なる推定投影位置の輝度との変化量を示す輝度変化量を算出し、算出した前記輝度変化量が第2条件を満たす推定投影位置である輝度変化点を求める算出部と、 前記反射強度変化点と前記輝度変化点とを比較して、前記計測部と前記撮像部との校正ずれを検知する検知部と、 を備え、 前記反射強度変化量の算出に用いられた前記被照射点、当該被照射点と異なる被照射点は、それぞれ、前記輝度変化量の算出に用いられた前記推定投影位置、当該推定投影位置と異なる推定投影位置と対応する計測装置。

IPC (3)：

G01B 11/00 ( 200 6.01) ,  G01B 11/26 ( 200 6.01) ,  G06T 1/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

G01B 11/00 H ,  G01B 11/26 H ,  G06T 1/00 315