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J-GLOBAL ID:201703011588646351

レーザ照射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 太田 昌孝 ,  米田 潤三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016053890
Publication number (International publication number):2017168729
Application date: Mar. 17, 2016
Publication date: Sep. 21, 2017
Summary:
【課題】レーザ光源から照射されたレーザ光の強度分布を低減して均一な強度で照射することを可能とするレーザ照射装置を提供する。【解決手段】レーザ照射装置を、レーザ光源と、このレーザ光源から出射されたレーザ光を受光する回折光学素子を基準光軸上に備えるものとし、回折光学素子に入射するレーザ光の入射方位が変化するように構成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ光源と、該レーザ光源から出射されたレーザ光を受光する回折光学素子を基準光軸上に備え、該回折光学素子に入射するレーザ光の入射方位が変化することを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (6):
H01S 3/00 ,  G02B 5/18 ,  B23K 26/073 ,  B23K 26/067 ,  G02B 19/00 ,  G02B 27/48
FI (6):
H01S3/00 B ,  G02B5/18 ,  B23K26/073 ,  B23K26/067 ,  G02B19/00 ,  G02B27/48
F-Term (20):
2H052BA02 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H249AA02 ,  2H249AA03 ,  2H249AA25 ,  2H249AA34 ,  2H249AA64 ,  2H249CA09 ,  2H249CA16 ,  4E168CB18 ,  4E168DA02 ,  4E168DA03 ,  4E168DA04 ,  4E168DA26 ,  4E168DA37 ,  4E168EA05 ,  5F172NR02 ,  5F172NR12 ,  5F172ZZ01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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