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J-GLOBAL ID：201703013041282781

マイクロ波を使用した化学反応装置

Inventor： 内田 博
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (2)： 在原 元司 ,  竹居 信利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016092337
Publication number (International publication number)：2017200671
Application date： May. 02, 2016
Publication date： Nov. 09, 2017
Summary：

【課題】反応物を均一に加熱することができるマイクロ波を使用した化学反応装置を提供する。【解決手段】第一の対向する壁面間の間隙が0.05mm〜2.0mmの範囲である薄型の反応空間を有する薄型矩形反応器10と、薄型矩形反応器10に波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を、前記反応空間内に流通される反応物に応じて前記マイクロ波の電気力線又は磁力線が前記薄型矩形反応器の第一の対向する壁面と平行又は垂直方向となるように供給する、平行に配置された複数の導波管を有するマイクロ波供給手段12と、を備え、前記薄型矩形反応器が前記複数の導波管の内部を貫通し、前記薄型矩形反応器の幅方向に対する総電界強度又は総磁界強度が略均等となるように各導波管に発生するマイクロ波の定在波の位相が調整され配置されている、マイクロ波を使用した化学反応装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

第一の対向する壁面間の間隙が0.05mm〜2.0mmの範囲である薄型の反応空間を有する薄型矩形反応器と、 前記薄型矩形反応器に波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を、前記反応空間内に流通される反応物に応じて前記マイクロ波の電気力線又は磁力線が前記薄型矩形反応器の第一の対向する壁面と平行又は垂直方向となるように供給する、平行に配置された複数の導波管を有するマイクロ波供給手段と、 を備え、 前記薄型矩形反応器が前記複数の導波管の内部を貫通し、前記薄型矩形反応器の幅方向に対する総電界強度又は総磁界強度が略均等となるように各導波管に発生するマイクロ波の定在波の位相が調整され配置されていることを特徴とする、マイクロ波を使用した化学反応装置。

IPC (5)：

B01J 19/12 ,  H05B 6/80 ,  H05B 6/74 ,  H05B 6/70 ,  H01P 7/06

FI (5)：

B01J19/12 A ,  H05B6/80 Z ,  H05B6/74 E ,  H05B6/70 E ,  H01P7/06

F-Term (30)：

3K090AA01 ,  3K090AB20 ,  3K090BA08 ,  3K090BB18 ,  3K090CA24 ,  3K090EA04 ,  3K090EA09 ,  3K090NB07 ,  4G075AA13 ,  4G075AA61 ,  4G075BA10 ,  4G075BD05 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075DA05 ,  4G075DA18 ,  4G075EA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  5J006HC01 ,  5J006HC12 ,  5J006HC13 ,  5J006LA01 ,  5J006MA01 ,  5J006MB03 ,  5J006NA06