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J-GLOBAL ID:201703015364544567
樹脂組成物およびガス発生膜
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人SSINPAT
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016243102
Publication number (International publication number):2017057416
Application date: Dec. 15, 2016
Publication date: Mar. 23, 2017
Summary:
【課題】細胞などの被接着物の種類を問わずに、どのような被接着物であっても被接着物を回収することができる被接着物回収方法を提供することを目的とする。【解決手段】(メタ)アクリル酸由来の構造単位を有する重合体、およびアジ化物およびジアゾ化合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする樹脂組成物。(メタ)アクリル酸由来の構造単位を有する重合体、およびアジ化物およびジアゾ化合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とするガス発生膜。【選択図】図1
Claim (excerpt):
(メタ)アクリル酸由来の構造単位を有する重合体、およびアジ化物およびジアゾ化合物から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする樹脂組成物。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (13):
4B029AA27
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC11
, 4B029DG08
, 4B029GB09
, 4J002AC031
, 4J002BG011
, 4J002EQ016
, 4J002EQ036
, 4J002FD206
, 4J002FD326
, 4J002GB01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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ガス発生材及びマイクロポンプ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-051302
Applicant:積水化学工業株式会社
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マイクロ流体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-262013
Applicant:積水化学工業株式会社
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特開昭52-134656
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ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-100921
Applicant:富士フイルムアーチ株式会社
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パタン形成方法及びそれに用いるフォトレジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-089029
Applicant:株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
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特開昭52-134656
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半導体チップの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-107584
Applicant:積水化学工業株式会社
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物質の測定方法、物質測定用基板、並びに、物質測定システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-123364
Applicant:積水化学工業株式会社
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