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J-GLOBAL ID：201703016897904081

ガス分析装置およびガス分析方法

Inventor：
鈴木 拓

About 鈴木 拓

, 
坂口 勲

About 坂口 勲


Applicant, Patent owner：
国立研究開発法人物質・材料研究機構

About 国立研究開発法人物質・材料研究機構


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015227765
Publication number (International publication number)：2017096710
Application date： Nov. 20, 2015
Publication date： Jun. 01, 2017
Summary：
【課題】ガス中のごく微量に含有される物質の質量を分析するガス分析装置及びガス分析方法の提供。【解決手段】ガスを導入する導入管110を有し、第1の真空ポンプ120を備える真空チャンバ130と、冷却装置140と、真空チャンバ内に配置され、凍結凝縮させる基板160が載置される支持体150と、基板160を加熱する加熱装置170と、質量分析機構180とを備え、質量分析機構180は、基板160から脱離した物質を吸引する吸引管181と、物質のうち一部を排気し、質量分析機構180内を真空状態に維持する第2の真空ポンプ182と、排気されなかった物質の質量を分析する質量分析器とをさらに備え、吸引管181は、その一方の開口端が基板に対向するよう配置され、かつ、基板に対して近接するよう移動可能であり、吸引管181は、一方の開口端の口径が吸引管181のそれ以外の部分の口径よりも小さくなるよう先細りの形状を有する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
複数の物質から構成されるガスのうち1以上の物質の質量を分析するガス分析装置であって、 前記ガスを導入する導入管を有し、第1の真空ポンプを備える真空チャンバと、 前記真空チャンバに接続される冷却装置と、 前記冷却装置に接続され、前記真空チャンバ内に配置された支持体であって、前記冷却装置により前記導入されたガスのうち少なくとも前記1以上の物質を凍結凝縮させる基板が載置される支持体と、 前記支持体に載置された前記基板を加熱する加熱装置と、 前記真空チャンバに接続された質量分析機構と を備え、 前記質量分析機構は、 前記加熱装置により前記基板から脱離した前記1以上の物質を吸引する吸引管と、 前記吸引管で吸引された前記1以上の物質のうち一部を排気し、前記質量分析機構内を真空状態に維持する第2の真空ポンプと、 前記排気されなかった1以上の物質の質量を分析する質量分析器と をさらに備え、 前記吸引管は、その一方の開口端が前記基板に対向するよう配置され、かつ、前記基板に対して近接するよう移動可能であり、 前記吸引管は、前記一方の開口端の口径が前記吸引管のそれ以外の部分の口径よりも小さくなるよう先細りの形状を有する、ガス分析装置。
IPC (3)：
G01N 27/62 ,  G01N 1/00 ,  G01N 25/14
FI (4)：
G01N27/62 F ,  G01N27/62 V ,  G01N1/00 101R ,  G01N25/14 E
F-Term (28)：
2G040AB11 ,  2G040BA02 ,  2G040BA23 ,  2G040CA03 ,  2G040ZA01 ,  2G041CA01 ,  2G041EA05 ,  2G041FA04 ,  2G041FA05 ,  2G041FA07 ,  2G041GA03 ,  2G041GA06 ,  2G041JA17 ,  2G041LA07 ,  2G052AA01 ,  2G052AB01 ,  2G052AB02 ,  2G052AB05 ,  2G052AB07 ,  2G052AB08 ,  2G052AB11 ,  2G052AB22 ,  2G052EB01 ,  2G052EB04 ,  2G052EB08 ,  2G052EB11 ,  2G052JA03 ,  2G052JA04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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