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J-GLOBAL ID：201703017260051499

DNA中のグアニン・脱塩基部位の検出方法

Inventor： 呉 純
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016507391
Patent number：6176694
Application date： Jan. 29, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】2本鎖DNA中の発生した脱塩基部位の反対側にあるグアニンを検出するプロセスであって、(1)2本鎖DNA中の脱塩基部位を酵素により位置選択的に切断する第1ステップ、(2)脱塩基部位の反対側にあるグアニンの2位アミノ基を修飾剤により修飾する第2ステップ、 (3)第1ステップ及び第2ステップを行って得られた修飾後の2本鎖DNAを鋳型とするポリメラーゼ連鎖反応を行い、増幅産物の有無を調べる第3ステップを含む(但し、第1ステップと第2ステップの順序は問わない)、グアニン・脱塩基部位の有無を検出する方法。

IPC (3)：

C12Q 1/68 ( 200 6.01) ,  G01N 33/50 ( 200 6.01) ,  C12N 15/09 ( 200 6.01)

FI (3)：

C12Q 1/68 ZNA Z ,  G01N 33/50 P ,  C12N 15/00 A