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J-GLOBAL ID：201703017266554883

バリアフィルム、バリアフィルムの製造方法、およびそのバリアフィルムを用いた素子

Inventor： 土`屋 陽一 ,  巫 軒偉 ,  安達 千波矢 ,  耿 ▲炎▼
Applicant, Patent owner： 国立大学法人九州大学
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016037167
Publication number (International publication number)：2017154283
Application date： Feb. 29, 2016
Publication date： Sep. 07, 2017
Summary：

【課題】高いバリア性を示すバリアフィルムを実現すること。【解決手段】フルオロアルキル基で置換されたシルセスキオキサン構造を有する化合物を含むバリアフィルム。シルセスキオキサン構造は、式(4)又は式(5)で表される基の少なくとも一方を有することが好ましい。*-L-FA(4)*-L-FA’-Z(5)(Lは連結基又は単結合;FAはフルオロアルキル基;FA’はフルオロアルキレン基;ZはH又は置換基;*はシルセスキオキサン構造のケイ素原子への結合部位)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

フルオロアルキル基を有する基で置換されたシルセスキオキサン構造を有する化合物を含むことを特徴とするバリアフィルム。

IPC (3)：

B32B 9/00 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/04

FI (3)：

B32B9/00 Z ,  H05B33/14 A ,  H05B33/04

F-Term (23)：

3K107AA01 ,  3K107CC23 ,  3K107DD02 ,  3K107DD03 ,  3K107EE46 ,  3K107EE50 ,  3K107FF15 ,  3K107GG02 ,  3K107GG06 ,  4F100AH03 ,  4F100AK52A ,  4F100AK52B ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02 ,  4F100YY00 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B