Pat

J-GLOBAL ID：201703017679264115

水熱処理装置

Inventor： 長谷川 克久 ,  杤本 信彦 ,  大門 裕之 ,  熱田 洋一
Applicant, Patent owner： フジムラインベント株式会社 ,  国立大学法人豊橋技術科学大学
Agent (2)： 特許業務法人明成国際特許事務所 ,  井上 佳知
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013199322
Publication number (International publication number)：2015062875
Patent number：6197997
Application date： Sep. 26, 2013
Publication date： Apr. 09, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 亜臨界状態の水蒸気を用いた被処理物の水熱処理装置であって、 中空の処理装置本体と、 前記被処理物が投入された状態で前記処理装置本体に収納される中空の脱水管と、 前記被処理物が投入済みの前記脱水管と前記処理装置本体とに前記亜臨界状態の水蒸気を導入して前記処理装置本体の内部を亜臨界雰囲気とし、該亜臨界雰囲気下で前記被処理物を水熱処理する水熱処理部と、 前記脱水管に投入済みで前記亜臨界雰囲気下での前記水熱処理を受けた前記被処理物に圧縮力を付与して液体成分を脱水分離し、該分離した液体成分を前記処理装置本体の底部の側に導く脱水処理部と、 前記処理装置本体の下方側に配設された貯留タンクと前記処理装置本体の底部とを結ぶ管路の開閉を実行して、前記処理装置本体の底部から前記貯留タンクへの前記液体成分の排出を制御する制御部とを備え、 前記脱水処理部は、前記制御部による前記貯留タンクへの前記液体成分の排出がなされた後に、前記圧縮力を解放し、 前記水熱処理部は、前記脱水処理部による前記圧縮力の解放がなされた後に、前記処理装置本体の内部を大気解放して前記亜臨界雰囲気を解消する 水熱処理装置。

IPC (4)：

C02F 11/08 ( 200 6.01) ,  C02F 11/12 ( 200 6.01) ,  B09B 3/00 ( 200 6.01) ,  B01J 3/00 ( 200 6.01)

FI (5)：

C02F 11/08 ZAB ,  C02F 11/12 D ,  B09B 3/00 304 H ,  B09B 3/00 304 Z ,  B01J 3/00 A