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J-GLOBAL ID：201703018852192911

有機高分子材料の射出成形時におけるガス焼けおよびアウトガス抑制方法

Inventor： 鈴木 崇 ,  恩田 紘樹 ,  福島 祥夫 ,  黒岩 広樹 ,  小松 秀和 ,  一倉 史人
Applicant, Patent owner： 群馬県 ,  株式会社一倉製作所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013175539
Publication number (International publication number)：2015044305
Patent number：6119020
Application date： Aug. 27, 2013
Publication date： Mar. 12, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】有機高分子材料の成形金型の任意箇所に成形不良防止ガス導入ポートを設置し、 成形不良防止ガスとして、 テトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエタンから選択された1種以上のハロゲン化炭化水素を用い、 圧力0.1kg/cm2,G以上10kg/cm2,G未満で該導入ポートから金型内に導入する工程に続いて、圧開放する工程を経て金型内圧力を常圧とした状態で、溶融した有機高分子材料を金型内に充填することを特徴とする表面炭化および充填不足の抑制方法。

IPC (3)：

B29C 33/10 ( 200 6.01) ,  B29C 45/34 ( 200 6.01) ,  B29C 45/76 ( 200 6.01)

FI (3)：

B29C 33/10 ,  B29C 45/34 ,  B29C 45/76

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 射出成形機に対する窒素ガスの供給方法および供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-224807   Applicant：株式会社フクハラ
• 情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板、情報記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-306167   Applicant：富士電機デバイステクノロジー株式会社
• 加工物を製造するための成形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-145670   Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
• 特開昭62-231715