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J-GLOBAL ID：201703018968117291

排ガス処理方法および排ガス処理装置

Inventor： 黒木 智之 ,  大久保 雅章 ,  藤島 英勝 ,  山本 柱 ,  鳥居 豊彦 ,  藤本 直行
Applicant, Patent owner： 公立大学法人大阪府立大学 ,  日本山村硝子株式会社
Agent (4)： 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013145624
Publication number (International publication number)：2015016434
Patent number：6178141
Application date： Jul. 11, 2013
Publication date： Jan. 29, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 NOxを含む150°C以上の排ガス中に水溶液である第1液体とオゾンとを供給し、オゾンガスを含む排ガス中に第1液体の水滴が浮遊する第1ミストを発生させる工程を含み、 第1ミストは、第1液体を排ガス中に噴霧することにより形成されたミスト中の部分低温域にオゾンガスを直接供給することにより形成され、 前記部分低温域は、第1液体の水滴が蒸発することによる気化熱により部分的に排ガス温度が150°C未満に低下した領域であり、 第1液体は、還元剤水溶液または還元剤を溶質として含むアルカリ性水溶液である排ガス処理方法。

IPC (9)：

B01D 53/18 ( 200 6.01) ,  B01D 53/50 ( 200 6.01) ,  B01D 53/56 ( 200 6.01) ,  B01D 53/73 ( 200 6.01) ,  B01D 53/75 ( 200 6.01) ,  B01D 53/76 ( 200 6.01) ,  B01D 53/78 ( 200 6.01) ,  B01D 53/79 ( 200 6.01) ,  B01D 53/92 ( 200 6.01)

FI (14)：

B01D 53/18 150 ,  B01D 53/50 230 ,  B01D 53/56 230 ,  B01D 53/73 ,  B01D 53/75 ,  B01D 53/76 ,  B01D 53/78 ,  B01D 53/79 ,  B01D 53/92 215 ,  B01D 53/92 224 ,  B01D 53/92 310 ,  B01D 53/92 320 ,  B01D 53/92 331 ,  B01D 53/92 335

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 排ガス処理方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-286354   Applicant：三菱電機株式会社
• 排気ガスの処理方法および処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-117734   Applicant：公立大学法人大阪府立大学
• 特開昭55-084522
  
• 特開昭55-084522
  
• 特開昭55-056818
  
• 特開昭55-022319
  
• 特開昭51-081779
  
• 排煙の処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-322250   Applicant：鈴木信弘
• 特開昭50-049161
  
• 特開昭55-084522