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J-GLOBAL ID：201703020597666330

銅ナノ粒子の製造方法

Inventor： 高橋 英志 ,  横山 俊 ,  田路 和幸 ,  甲斐 隆行
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  パナソニック株式会社
Agent (4)： 田中 光雄 ,  鮫島 睦 ,  岡部 博史 ,  稲葉 和久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015198380
Publication number (International publication number)：2017071816
Application date： Oct. 06, 2015
Publication date： Apr. 13, 2017
Summary：

【課題】水溶液中で銅ナノ粒子を合成し、低い配線抵抗を形成するための銅ナノ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】銅ナノ粒子の製造方法は、銅イオンとクエン酸とを含み、pH10以上pH12未満の範囲に調整された第1の水溶液を用意する工程と、アスコルビン酸を含み、pH10以上pH12未満の範囲に調整された第2の水溶液を用意する工程と、第1の水溶液と前記第2の水溶液とを混合して、銅イオンを還元して銅ナノ粒子の分散液を得る工程と、を含む。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

銅イオンとクエン酸とを含み、pH10以上pH12未満の範囲に調整された第1の水溶液を用意する工程と、 アスコルビン酸を含み、pH10以上pH12未満の範囲に調整された第2の水溶液を用意する工程と、 前記第1の水溶液と前記第2の水溶液とを混合して、前記銅イオンを還元して銅ナノ粒子の分散液を得る工程と、 を含む、銅ナノ粒子の製造方法。

IPC (1)：

B22F 9/24

FI (1)：

B22F9/24 B

F-Term (16)：

4K017BA05 ,  4K017CA07 ,  4K017CA08 ,  4K017DA01 ,  4K017EJ01 ,  4K017FB01 ,  4K017FB03 ,  4K017FB07 ,  4K018BA02 ,  4K018BB04 ,  4K018BB05 ,  4K018BC29 ,  4K018BD04 ,  4K018DA21 ,  4K018DA33 ,  4K018KA33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 銅微粒子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2013-100924   Applicant：国立大学法人東北大学, DOWAエレクトロニクス株式会社