Pat
J-GLOBAL ID:201703021078078150
非対称ビス(1,2-ジアリールアミノ)ベンゼン類及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
萩 規男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017044968
Publication number (International publication number):2017165722
Application date: Mar. 09, 2017
Publication date: Sep. 21, 2017
Summary:
【課題】有機EL素子材料として利用可能な非対称ビス(1,2-ジアリールアミノ)ベンゼン類及びその製造方法、さらにビス(1,2-ジアリールアミノ)ベンゼン類を製造するために有用な中間体であるオルトフェニレンジアミン類の提供。【解決手段】非対称ビス(1,2-ジアリールアミノ)ベンゼン類及び、ジアリールアミン類とグリニャール試薬とを反応させて、マグネシウムジアリールアミド類を得た後、マグネシウムジアリールアミド類に遷移金属触媒及び酸化剤を反応させて、オルトフェニレンジアミン類(2)を得、さらに遷移金属触媒及び塩基の存在下、ハロゲン化合物と反応させる、非対称ビス(1,2-ジアリールアミノ)ベンゼン類の製造方法、さらにビス(1,2-ジアリールアミノ)ベンゼン類を製造するために有用な中間体であるオルトフェニレンジアミン類を用いる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)
IPC (4):
C07C 211/54
, C07C 211/56
, C07C 209/66
, C07C 209/10
FI (4):
C07C211/54
, C07C211/56
, C07C209/66
, C07C209/10
F-Term (12):
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB92
, 4H006AC52
, 4H006BA18
, 4H006BA25
, 4H006BA32
, 4H006BB11
, 4H006BB15
, 4H039CA41
, 4H039CA71
, 4H039CD10
Patent cited by the Patent: