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J-GLOBAL ID:201801002513452005   Update date: Apr. 09, 2024

URAKAMI Noriyuki

ウラカミ ノリユキ | URAKAMI Noriyuki
Affiliation and department:
Job title: Associate Professor
Research field  (2): Crystal engineering ,  Electric/electronic material engineering
Research keywords  (2): 層状物質 ,  機能性薄膜
Research theme for competitive and other funds  (15):
  • 2024 - 2025 層状窒化炭素薄膜における室温強磁性の発現
  • 2024 - 2025 ノーマリーオフ動作二次元チャネル電子素子の開発
  • 2023 - 2024 新規p型二次元チャネル材料による次世代電界効果トランジスタの設計と実証
  • 2023 - 2024 層状窒化炭素膜の界面制御による電界効果素子の開発
  • 2021 - 2024 グラファイト状窒化炭素膜の半導体素子への展開
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Papers (28):
  • Kota Higuchi, Masaki Tachibana, Noriyuki Urakami, Yoshio Hashimoto. Layered carbon nitride films deposited under an oxygen-containing atmosphere and their electronic properties. AIP Advances. 2024. 14. 2
  • Noriyuki Urakami, Masaya Fukai, Yoshio Hashimoto. Schottky barrier diode consisting of van der Waals heterojunction of MoS2 film and PtCoO2 contact. Solid-State Electronics. 2023. 207. 108685-108685
  • Noriyuki URAKIMI, Shinya Nakakura, Yoshio HASHIMOTO. Fabrication of a layered gallium selenide photodetector array via oxygen plasma etching. Applied Physics Express. 2023. 16. 056503
  • Noriyuki Urakami, Kensuke Takashima, Masahiro Shimizu, Yoshio Hashimoto. Thermal chemical vapor deposition of layered carbon nitride films under a hydrogen gas atmosphere. CrystEngComm. 2023. 25. 5. 877-883
  • Hayate Takeuchi, Noriyuki Urakami, Yoshio Hashimoto. Oxidation of tantalum disulfide (TaS2) films for gate dielectric and process design of two-dimensional field-effect device. Nanotechnology. 2022. 33. 37. 375204-375204
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MISC (6):
  • Investigation of formation conditions for boron carbon nitride film by chemical vapor deposition. 2017. 117. 268. 1-4
  • URAKAMI Noriyuki, WAKAHARA Akihiro, SEKIGUCHI Hiroto, OKADA Hiroshi. Formation of GaAsN alloys by surface nitridation. IEICE technical report. Component parts and materials. 2013. 113. 40. 23-26
  • FUKAMI Futoshi, URAKAMI Noriyuki, SEKIGUCHI Hiroto, OKADA Hiroshi, WAKAHARA Akihiro. Improvement in crystalline quality of GaAsN alloy by high temperature growth. IEICE technical report. Component parts and materials. 2012. 112. 33. 7-10
  • URAKAMI Noriyuki, FUKAMI Futoshi, SEKIGUCHI Hiroto, OKADA Hiroshi, WAKAHARA Akihiro. Molecular beam epitaxy growth of BGaP. IEICE technical report. 2011. 111. 44. 55-58
  • URAKAMI Noriyuki, NOMA Ryosuke, UMENO Kazuyuki, MITSUYOSHI Saburo, OKADA Hiroshi, FURUKAWA Yuzo, WAKAHARA Akihiro. Growth and luminescence characterization of self-assembled InGaAsN/GaPN quantum dots. IEICE technical report. 2009. 109. 24. 71-76
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Lectures and oral presentations  (122):
  • 窒素過剰層状窒化炭素膜の構造分析
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • リン添加層状窒化炭素膜の電子輸送
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • 二次元物質の積層による多層膜構造の設計と作製
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • 層状ヒ化ゲルマニウム膜の酸化による膜厚制御
    (第71回応用物理学会春季学術講演会 2024)
  • 積層構造によるα相セレン化インジウムの電気的特性の評価
    (第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023)
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Education (4):
  • 2012 - 2015 Toyohashi University of Technology Electrical and Electron Information Engineerign
  • 2009 - 2012 豊橋技術科学大学 工学研究科 修士課程 電気・電子工学専攻
  • 2007 - 2009 Toyohashi University of Technology
  • 2002 - 2007 Tsuyama National College of Technology
Professional career (1):
  • 博士(工学) (豊橋技術科学大学)
Work history (3):
  • 2024/04 - 信州大学, 工学部 電子情報システム工学科 准教授
  • 2016/04 - 2024/03 Shinshu University Faculty of Engineering Electrical and Computer Engineering
  • 2015/04 - 2016/03 Shinshu University Faculty of Engineering, Electrical and Electronic Engineering
Committee career (5):
  • 2021/04 - 応用物理学会北陸•信越支部 長野地区幹事 (支部学術講演会 開催委員)
  • 2018/06 - 2020/05 電子情報通信学会 信越支部 支部委員
  • - 2019/06 EM-NANO2019 プログラム委員会 プログラム委員
  • - 2019/06 EM-NANO2019 組織委員会 庶務幹事
  • 2017/04 - 2019/03 応用物理学会北陸•信越支部 長野地区幹事
Association Membership(s) (2):
Japan Society of Applied Physics ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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