Art

J-GLOBAL ID：201802215877671626   Reference number：18A1300003

ルチル型酸化チタン薄膜を低温・低コストで作製する技術を開発

Author (3)： ISHII AKIHIRO (東北大 大学院工学研究科) ,  OIKAWA ITARU (東北大 大学院工学研究科) ,  TAKAMURA HITOSHI (東北大 大学院工学研究科)
Material： レーザ加工学会誌  (Journal of Japan Laser Processing Society)
Volume： 25  Issue： 2  Page： 115-117  Publication year： Jun. 2018 
JST Material Number： L3905A  ISSN： 1881-6797  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *pulsed laser deposition ,  *titanium oxide ,  aluminum ,  *rutile type crystal ,  *thin film ,  refractive index ,  low temperature ,  wavelength ,  reflectivity ,  dielectrics ,  excimer laser ,  *optical property ,  additive effect
Semi thesaurus term： glass substrate ,  krypton fluoride excimer laser ,  visible region ,  optical coating ,  structure control ,  oxygen partial pressure ,  low price

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Refraction,reflection,dispersion,deflection,absorption,transmission  (BD03020B) ,  Applications of lasers  (BD04100V)

Reference (8)：

• Ting, C.-C., Chen, S.-Y., Liu, D.-M.: Structural evolution and optical properties of TiO₂ thin films prepared by thermal oxidation of sputtered Ti films, J. Appl. Phys. 88 (2000) 4628.
• Sbäi, N., Perrière, J., Seiler, W., Millon, E.: Epitaxial growth of titanium oxide thin films on c-cut and α-cut sapphire substrates, Surf. Sci. 601 (2007) 5649.
• Ishii, A., Nakamura, Y., Oikawa, I., Kamegawa, A., Takamura, H.: Low-temperature preparation of high-n TiO₂ thin film on glass by pulsed laser deposition, Appl. Surf. Sci. 347 (2015) 528.
• Hanaor, A.H., Sorrell, C.C.: Review of the anatase to rutile phase transformation, J. Mater. Sci. 46 (2011) 855.
• Yoon, H.-S., Kim, S.K., Im, H.-S.: Structural properties of TiO₂ films grown by pulsed laser deposition, Bull. Korean Chem. Soc. 18 (1997) 640.

Terms in the title (5)： ルチル型酸化チタン ,  薄膜 ,  低温 ,  作製 ,  開発