Art

J-GLOBAL ID：201802216075056602   Reference number：18A1761223

コバルト錯体を層間に有するマンガン酸化物薄膜の作製と電気化学特性

Author (8)： TOMONO KAZUAKI (関東学院大) ,  TOMONO KAZUAKI (宇部工高専) ,  KIKUCHI SHUN (関東学院大) ,  MURATA MICHIKA (宇部工高専) ,  KUROKAWA YUTA (宇部工高専) ,  YAHATA YUUMA (宇部工高専) ,  KAKIHARA SHUNTA (東理大 院) ,  TAMAKI YOSHINORI (明海大)
Material： 錯体化学会討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. JSCC Annual Symposium)
Volume： 68th  Page： 121  Publication year： Jul. 10, 2018 
JST Material Number： G0400B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *cobalt complex ,  *manganese oxide ,  electrodeposition ,  X-Ray Diffraction ,  thin film ,  cyclic voltammetry ,  electrostatic capacity ,  sulfate ion ,  *intercalation compound

JST classification (1)： Molecular compounds  (CE02000C)

Terms in the title (5)： コバルト錯体 ,  マンガン ,  酸化物薄膜 ,  作製 ,  電気化学特性