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J-GLOBAL ID：201802218163953509   Reference number：18A1996999

Behavior of UV-generated carriers and local structure around doped aluminum in anatase titanium dioxide

アナターゼ二酸化チタン中のドープしたアルミニウム周辺のUV生成キャリアの挙動と局所構造【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Ozawa Kazuchika (Yokohama National University, 79-5, Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, 240-8501, Japan) ,  Tanabe Yusuke (Yokohama National University, 79-5, Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, 240-8501, Japan) ,  Kodaira Tetsuya (Research Institute for Chemical Process Technology, AIST, 1-1-1, Higashi, Tsukuba, Ibaraki, 305-8561, Japan) ,  Sekiya Takao (Yokohama National University, 79-5, Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, 240-8501, Japan) ,  Sekiya Takao (Research Institute for Chemical Process Technology, AIST, 1-1-1, Higashi, Tsukuba, Ibaraki, 305-8561, Japan)
Material： Journal of Physics and Chemistry of Solids  (J Phys Chem Solids)
Volume： 124  Page： 137-143  Publication year： 2019 
JST Material Number： C0202A  ISSN： 0022-3697  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Al-doped anatase titanium diox...

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Thesaurus term： single crystal ,  Rietveld method ,  *doping ,  ultraviolet irradiation ,  *Aluminum ,  powder ,  *Titanium ,  sol-gel process ,  photoproduction ,  ESR ,  *anatase ,  positive hole ,  frequency (Hz) ,  *local structure ,  *titanium dioxide

Author keywords (5)： Photogenerated hole ,  Hole trapping ,  Al-doped TiO₂ ,  Chemical pressure ,  Electron paramagnetic resonance

JST classification (2)： Luminescence of inorganic compounds  (BM08093J) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (8)： アナターゼ ,  酸化チタン ,  ドープ ,  アルミニウム ,  周辺 ,  キャリア ,  挙動 ,  局所構造