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J-GLOBAL ID：201802218950547093   Reference number：18A2073625

大気圧低温プラズマより作製したAZO/ZnO/ZnO薄膜の水添加による膜特性の変化

Author (3)： SAKURAMATA SHINTARO (香川高専) ,  SUZAKI YOSHIFUMI (香川大) ,  SHIKAMA TOMOKAZU (香川高専)
Material： 電気関係学会四国支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Shikoku-Section Joint Convention Record of the Institutes of Electrical and Related Engineers (CD-ROM))
Volume： 2018  Page： ROMBUNNO.11-9  Publication year： Sep. 15, 2018 
JST Material Number： L1738B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *atmospheric plasma ,  *thin film ,  *zinc oxide ,  transparent conducting thin films ,  *doping ,  electrode ,  spectrum ,  photoluminescence ,  carrier gas ,  electrical resistivity ,  *low temperature atmospheric pressure plasma ,  *ZnO film
Semi thesaurus term： *Al-doped ZnO ,  ITO electrode ,  PL spectrum ,  *ZnO thin film ,  resistivity

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (7)： 大気圧低温プラズマ ,  作製 ,  Azo ,  ZnO ,  ZnO薄膜 ,  水 ,  膜特性