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J-GLOBAL ID：201802250744857200   Reference number：18A1697168

トポタクティックフッ素ドープによるSr₂IrO_4-xF_y薄膜の作製

Author (11)： MARUYAMA TAKAHIRO (東大 大学院) ,  CHIKAMATSU AKIRA (東大 大学院) ,  KATAYAMA TSUKASA (東大 大学院) ,  KURAMOCHI KENTA (産業技術総合研) ,  KURAMOCHI KENTA (東京理大) ,  OGINO HIRAKU (産業技術総合研) ,  KITAMURA MIHO (KEK) ,  HORIBA HIROSHI (KEK) ,  KUMIGASHIRA HIROSHI (KEK) ,  KUMIGASHIRA HIROSHI (東北大) ,  HASEGAWA TETSUYA (東大 大学院)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 79th  Page： ROMBUNNO.18a-223-1  Publication year： Sep. 05, 2018 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *fluorine ,  *doping ,  *layered compound ,  *oxide ,  *transition metal compound ,  strontium compound ,  iridium compound ,  acyl fluoride ,  *chemical reaction ,  strontium titanate ,  substrate(plate) ,  pulsed laser deposition ,  epitaxy ,  polyvinylidene fluoride ,  X-ray diffraction ,  energy dispersive X-ray spectrometry
Semi thesaurus term： *layered perovskite ,  *transition metal oxide ,  *トポタクティック

JST classification (3)： Crystal structure of metal oxides and chalcogenides  (BK07020Y) ,  Oxide thin films  (BK14050P) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (3)： ドープ ,  薄膜 ,  作製