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J-GLOBAL ID：201802267205047463   Reference number：18A1353238

磁歪薄膜の組織が内部応力に及ぼす影響

Author (6)： TSUKAGOSHI YOSHIHITO (東海大 大学院工学研究科) ,  YAMAGUCHI KENGO (東海大 大学院工学研究科) ,  YATAGAI KOHEI (東海大 工) ,  GENMA RYUTA (東海大 工) ,  UCHIDA HERUMUTOTAKAHIRO (東海大 工) ,  MATSUMURA YOSHIHITO (東海大 大学院工学研究科)
Material： 電磁力関連のダイナミクスシンポジウム講演論文集  (電磁力関連のダイナミックスシンポジウム講演論文集)
Volume： 30th  Page： 356-359  Publication year： May. 23, 2018 
JST Material Number： L1079A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *magnetostrictive material ,  *magnetic thin film ,  metallic thin film ,  *internal stress ,  *ion collision ,  thermal stress ,  stress(mechanics) ,  *sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  *micro structure ,  parameter ,  magnetostriction ,  *nickel ,  substrate(plate) ,  silicon
Semi thesaurus term： ion impact ,  *oblique deposition ,  true stress ,  microstructure

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (4)： 磁歪 ,  薄膜 ,  組織 ,  内部応力