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J-GLOBAL ID：201802269883954770   Reference number：18A1520331

Effects of mixed ultrafine colloidal silica particles on chemical mechanical polishing of sapphire

サファイアの化学機械研磨に及ぼす混合超微細コロイド状シリカ粒子の影響

Author (6)： BUN-ATHUEK Natthaphon (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  TAKAZAKI Hiroko (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  YOSHIMOTO Yutaka (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  KHAJORNRUNGRUANG Panart (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  YASUNAGA Takuo (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  SUZUKI Keisuke (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 7S2  Page： 07MD03.1-07MD03.5  Publication year： Jul. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *sapphire ,  *chemical mechanical polishing ,  *ultrafine particle ,  *silicon dioxide ,  Dynamic Light Scattering ,  transmission electron microscope ,  atomic force microscope ,  *substrate (plate) ,  friction coefficient ,  abrasive compound ,  *colloidal silica ,  *ore ,  *precious stone ,  *machining
Semi thesaurus term： *colloidal silica

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (38)：

• J. Wang, B. Guo, Q. Zhao, C. Zhang, Q. Zhang, H. Chen, and J. Sun, J. Eur. Ceram. Soc. 37, 2465 (2017).
• W. Wang, J. Huo, W. Liu, and Z. Song, Proc. ICPT, 2016, p. 149.
• X. Niu, Y. Liu, B. Tan, L. Han, and J. Zhang, Trans. Nonferrous Met. Soc. China 16, s732 (2006).
• Y. He, Y. Li, J. Zhou, and P. Wu, Proc. ICPT, 2016, p. 144.
• T. Matsunaga, M. Uneda, Y. Takahashi, K. Shibuya, Y. Nakamura, D. Ichikawa, and K. Ishikawa, Proc. ICPT, 2015, p. 267.

Terms in the title (4)： サファイア ,  化学機械研磨 ,  超微細 ,  コロイド状シリカ