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J-GLOBAL ID：201802273825955104   Reference number：18A1698281

Pt/Ni二層触媒を用いた低濃度水素によるYの三水素化

Author (10)： KOBAYASHI TAKUYA (埼玉大 大学院) ,  MIKAMI RYOTA (埼玉大 大学院) ,  SUGANUMA NAO (埼玉大 大学院) ,  AKISATO SOJIRO (埼玉大 大学院) ,  SAKAI MASAMICHI (埼玉大 大学院) ,  HANAJIRI TATSURO (東洋大) ,  NAKAJIMA YOSHIKATA (東洋大) ,  TOKUDA MASAHIDE (東洋大) ,  FUJII YASUHIKO (東洋大) ,  NAKAMURA OSAMU (岡山理大)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 79th  Page： ROMBUNNO.19a-PB1-9  Publication year： Sep. 05, 2018 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： platinum catalyst ,  nickel catalyst ,  *hydrogenation ,  *yttrium ,  electron beam deposition ,  thin film growth ,  *multilayer film ,  temperature dependence ,  hydrogen compound ,  yttrium compound ,  gamma phase

JST classification (1)： Salts  (CD01050V)

Terms in the title (6)： Pt ,  Ni ,  触媒 ,  低濃度 ,  水素 ,  水素化