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J-GLOBAL ID：201802277701397662   Reference number：18A0360352

高分子多孔質フィルム/膜の材料技術と最新応用展開 解説 多孔質膜編 ロバストRO/NF膜の開発とフレキシブルセラミック膜への展開

Author (1)： TSURU TOSHINORI (広島大 大学院工学研究科)
Material： 工業材料  (Engineering Materials)
Volume： 66  Issue： 3  Page： 26-30  Publication year： Mar. 01, 2018 
JST Material Number： F0172A  ISSN： 0452-2834  CODEN： KZAIA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： polymer membrane ,  porosity (property) ,  *robustness ,  *flexible circuit board ,  sol-gel process ,  pore ,  nanostructure ,  *ceramic membrane ,  silicon dioxide ,  Sodium Chloride ,  solute ,  thermal stability ,  mixed construction ,  ultrathin film ,  water and sewage treatment ,  *inorganic separation membrane ,  network ,  crosslinking ,  Nanopores ,  nanofiltration membrane ,  hydrothermal stability ,  *porosity ceramic membrane ,  organic solute ,  *membrane and film

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Thin films of organic compounds  (BK14070L)

Substance index (1)： 1,2-Bis(triethoxysilyl)ethane

Terms in the title (9)： 高分子 ,  多孔質フィルム ,  応用 ,  展開 ,  多孔質膜 ,  ロバスト ,  RO ,  開発 ,  セラミック膜