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J-GLOBAL ID：201802280571850771   Reference number：18A1977411

表面X線回折測定の高速化と固液界面構造のその場追跡

Author (4)： SHIRASAWA TETSURO (産業技術総合研 物質計測標準研究部門) ,  VOEGELI Wolfgang (東京学芸大 教育) ,  ARAKAWA ETSUO (東京学芸大 教育) ,  TAKAHASHI TOSHIO (東京学芸大 教育)
Material： 固体物理  (Solid State Physics)
Volume： 53  Issue： 10  Page： 525-530  Publication year： Oct. 15, 2018 
JST Material Number： F0158B  ISSN： 0454-4544  CODEN： KOTBA2  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *X-ray diffraction ,  *solid-liquid interface ,  measurement ,  electrochemical reaction ,  X-ray scattering ,  strength ,  fluctuation ,  in situ observation ,  gas-solid interface ,  thin film growth
Semi thesaurus term： *surface X-ray diffraction ,  mensuration technique ,  X-ray crystal truncation rod scattering ,  scattering intensity ,  structural fluctuation ,  solid-gas interface

JST classification (2)： Solid-liquid interface  (CB12050B) ,  Surface structure of solids in general  (BK15010E)

Terms in the title (3)： 表面X線回折 ,  固液界面 ,  追跡