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J-GLOBAL ID：201802281205153215   Reference number：18A0910970

Mechanically and electrically robust metal-mask design for organic CMOS circuits

有機CMOS回路のための機械的および電気的に堅牢な金属マスク設計

Author (6)： SHINTANI Michihiro (Nara Inst. of Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN) ,  QIN Zhaoxing (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KURIBARA Kazunori (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  OGASAHARA Yasuhiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROMOTO Masayuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  SATO Takashi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 4S  Page： 04FL05.1-04FL05.5  Publication year： Apr. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *semiconductor integrated circuit ,  *mechanical strength ,  *electrical property ,  *robustness ,  *mask ,  *lithography ,  *Technology ,  *fine patterning ,  *flow chart ,  ring oscillator ,  *seam welding ,  *spot welding ,  mold and pattern ,  *micromachining process technology ,  *CMOS IC ,  *stitch welding
Semi thesaurus term： *CMOS circuit ,  *stitching ,  *hard mask ,  mask pattern ,  *robustness ,  *design flow ,  *electrical property

JST classification (3)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Welding techniques  (WC07030G)

Terms in the title (3)： CMOS回路 ,  金属マスク ,  設計