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J-GLOBAL ID：201803000765221507

マイクロニードル製造方法及びマイクロニードル製造装置

Inventor： 志賀 代康 ,  及川 陽一 ,  宮地 邦男 ,  豊田 耕平
Applicant, Patent owner： シンクランド株式会社
Agent (1)： 吉田 みさ子
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2017022689
Publication number (International publication number)：WO2018020911
Application date： Jun. 20, 2017
Publication date： Feb. 01, 2018
Summary：

中空針を形成できるマイクロニードル製造方法及びマイクロニードル製造装置を提供するものである。 本発明のマイクロニードル製造方法は、レーザビームを、螺旋状の偏光を有する光渦パルス光に変換する光渦変換ステップと、前記光渦パルス光を照射することにより、加工する対象となる加工対象物に対して針山を形成する針山形成ステップと、前記針山に対してレーザパルス光を照射することにより、前記針山に穴又は孔を形成する孔形成ステップとを有し、前記レーザパルス光のスポットサイズは、前記光渦パルス光のスポットサイズよりも小さいことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

レーザビームを、螺旋状の偏光を有する光渦パルス光に変換する光渦変換ステップと、 前記光渦パルス光を照射することにより、加工する対象となる加工対象物に対して針山を形成する針山形成ステップと、 前記針山に対してレーザパルス光を照射することにより、前記針山に穴又は孔を形成する孔形成ステップとを有し、 前記レーザパルス光のスポットサイズは、前記光渦パルス光のスポットサイズよりも小さい ことを特徴とするマイクロニードル製造方法。

IPC (3)：

B23K 26/382 ,  H01S 3/10 ,  H01S 3/00

FI (3)：

B23K26/382 ,  H01S3/10 Z ,  H01S3/00 B

F-Term (30)：

4E168AD11 ,  4E168AD18 ,  4E168CA03 ,  4E168CB04 ,  4E168CB18 ,  4E168DA02 ,  4E168DA03 ,  4E168DA04 ,  4E168DA06 ,  4E168DA23 ,  4E168DA32 ,  4E168DA39 ,  4E168DA46 ,  4E168DA60 ,  4E168EA02 ,  4E168EA05 ,  4E168EA11 ,  4E168EA15 ,  4E168EA22 ,  4E168JA02 ,  4E168JA03 ,  4E168JA12 ,  4E168JA15 ,  4E168JA16 ,  4E168JA17 ,  5F172AE03 ,  5F172AF02 ,  5F172NR02 ,  5F172NR12 ,  5F172ZZ01