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J-GLOBAL ID：201803003422977761

光線位置制御装置

Inventor： 石川 正俊 ,  王 立輝 ,  早川 智彦
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 東京大学
Agent (1)： 成瀬 重雄
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2016076149
Publication number (International publication number)：WO2017064942
Application date： Sep. 06, 2016
Publication date： Apr. 20, 2017
Summary：

本発明は、誘電エラストマ自体を光学素子として用いて光線の位置を制御するための技術に関するものである。光線の位置を制御することにより、対象が遠方にある場合においても、高い分解能を維持することができる。 本発明の光線位置制御装置の本体(10)は、誘電エラストマにより構成されている。この誘電エラストマは、制御対象となる光線に対して実質的に透明とされている。誘電エラストマは、本体(10)の周囲に存在し、かつ光線が通過する媒質の屈折率とは異なる屈折率とされている。給電部(20)は、本体(10)に電圧を印加することにより、本体(10)の厚さを変化させる構成となっている。

Claim (excerpt)：

本体と、給電部とを備えており、 前記本体は、誘電エラストマにより構成されており、 前記誘電エラストマは、制御対象となる光線に対して実質的に透明とされており、 前記誘電エラストマは、前記本体の周囲に存在し、かつ前記光線が通過する媒質の屈折率とは異なる屈折率とされており、 前記給電部は、前記本体に電圧を印加することにより、前記本体の厚さを変化させる構成となっている ことを特徴とする光線位置制御装置。

IPC (1)：

G02B 26/08

FI (2)：

G02B26/08 J ,  G02B26/08 D

F-Term (4)：

2H141MB54 ,  2H141MC06 ,  2H141MD40 ,  2H141MF05