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J-GLOBAL ID：201803005201515677

高分子化ホウ素化合物及びその使用

Inventor： 長崎 幸夫 ,  高 振宇 ,  堀口 諭吉 ,  松村 明 ,  中井 啓 ,  小野 公二 ,  鈴木 実
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 筑波大学
Agent (1)： 特許業務法人小田島特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013175968
Publication number (International publication number)：2015044920
Patent number：6253008
Application date： Aug. 27, 2013
Publication date： Mar. 12, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 下記式Iで表される高分子化ホウ素化合物。 式中、Aは、非置換または置換C1-C12アルコキシを表し、置換されている場合の置換基は、ホルミル基または式R1R2CH-の基を表し、ここで、R1及びR2は独立して、C1-C4アルコキシまたはR1とR2は一緒になって-OCH2CH2O-、-O(CH2)3O-もしくは-O(CH2)4O-を表し、 L1は、結合または連結基を表し、 L2は、結合または連結基を表し、 Xは、Xの総数であるnの少なくとも3%が次の式(a): で表されるホウ素化合物の残基であり、Xが前記残基以外である場合には、当該Xは水素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシル基であり、 該式中、 mは、15〜10,000の整数を表し、そして nは、3〜3,000の整数を表す。

IPC (6)：

C08G 81/02 ( 200 6.01) ,  A61K 41/00 ( 200 6.01) ,  A61P 35/00 ( 200 6.01) ,  A61K 31/80 ( 200 6.01) ,  A61K 47/34 ( 201 7.01) ,  A61K 9/127 ( 200 6.01)

FI (6)：

C08G 81/02 ,  A61K 41/00 ,  A61P 35/00 ,  A61K 31/80 ,  A61K 47/34 ,  A61K 9/127

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 高分子ミセル型光刺激応答性一酸化窒素供与体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-037558   Applicant：国立大学法人筑波大学

Cited by examiner (2)

• 高分子ミセル型光刺激応答性一酸化窒素供与体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-037558   Applicant：国立大学法人筑波大学
• 新規な抗癌性化合物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-522288   Applicant：シメイファーマスーティカルズピーエルシー