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J-GLOBAL ID：201803005274712420

相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法

Inventor： 宮城 賢 ,  瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  山野 仁詩 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学
Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  松本 将尚 ,  宮本 龍 ,  飯田 雅人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016179028
Publication number (International publication number)：2018044055
Application date： Sep. 13, 2016
Publication date： Mar. 22, 2018
Summary：

【課題】新たなモノマーを必要とせずに相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びこれに用いる相分離構造形成用樹脂組成物を提供する。【解決手段】スチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、一部が一般式(h1)で表される構成単位で置換されたメタクリル酸メチル単位の繰り返し構造からなるブロック(b2)と、を有し、かつ、数平均分子量が28000未満であるブロックコポリマーを含有する相分離構造形成用樹脂組成物。一般式(h1)中、Rh0は、親水性官能基である。[化1]【選択図】なし

Claim (excerpt)：

スチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、一部が下記一般式(h1)で表される構成単位で置換されたメタクリル酸メチル単位の繰り返し構造からなるブロック(b2)と、を有し、かつ、数平均分子量が28000未満であるブロックコポリマーを含有する、相分離構造形成用樹脂組成物。

IPC (3)：

C08L 53/00 ,  C08F 8/32 ,  B05D 7/24

FI (4)：

C08L53/00 ,  C08F8/32 ,  B05D7/24 302J ,  B05D7/24 302P

F-Term (15)：

4D075DC21 ,  4D075EB14 ,  4D075EB22 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4J002BP031 ,  4J002DA01 ,  4J002GQ05 ,  4J002HA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100HA61 ,  4J100HC47 ,  4J100HG01 ,  4J100JA46