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J-GLOBAL ID：201803006596694881
情報処理装置、情報処理方法、及び、プログラム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：
立花 顕治
, 山田 威一郎
, 田中 順也
, 松井 宏記
, 山下 未知子
, 桝田 剛
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014097604
Publication number (International publication number)：2015215445
Patent number：6296496
Application date： May. 09, 2014
Publication date： Dec. 03, 2015
Claim (excerpt)：
【請求項1】 対象物の表面における局所的な平面での入射光の拡散反射を追跡することで該対象物の表面で生じる該入射光の全域的な拡散反射をシミュレートする所定の光学シミュレーションの条件を示す条件情報として、該対象物に入射する該入射光の属性、該対象物の表面に形成される凹凸形状、及び該対象物の表面で生じる全域的な拡散反射の程度を示す全域的拡散反射率の基準値を示す情報を取得する条件取得部と、
取得した前記条件情報により示される前記入射光及び前記対象物の条件下での前記光学シミュレーションに基づいて、前記凹凸形状の形成された前記対象物の表面における局所的な平面で生じる前記入射光の前記拡散反射の挙動をシミュレートにすることによって、前記対象物の表面における前記全域的拡散反射率の値及び前記拡散反射に起因して発現する再帰反射の程度を算定するシミュレーション部と、
前記光学シミュレーションにより算定される前記全域的拡散反射率の算定値が前記条件情報に含まれる基準値付近か否かを判定し、前記全域的拡散反射率の算定値が前記基準値付近であると判定される場合に、前記光学シミュレーションにより算定される前記再帰反射の程度を、前記条件情報により示される前記凹凸形状の形成された前記対象物の表面で生じる再帰反射の程度として特定する再帰反射性能特定部と、
を備える、
情報処理装置。
IPC (1)：
FI (1)：
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