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J-GLOBAL ID：201803006927593371

超格子構造体、その製造方法およびそれを用いた電極材料

Inventor： 馬 仁志 ,  佐々木 高義 ,  板東 義雄
Applicant, Patent owner： 国立研究開発法人物質・材料研究機構
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014077997
Publication number (International publication number)：2015201483
Patent number：6313636
Application date： Apr. 04, 2014
Publication date： Nov. 12, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 M12+イオンとM23+イオンとを含有する複水酸化物ナノシートと、還元された酸化グラフェンナノシートとが交互に積層された超格子構造体であって、 前記M12+イオンのM1元素は、Co、Fe、Ni、Mn、CuおよびZnからなる群から少なくとも1つ選択される金属元素であり、 前記M23+イオンのM2元素は、Al、Cr、Mn、Fe、Co、NiおよびGaからなる群から少なくとも1つ選択される金属元素であり、 層間距離は、0.8nm以上1.3nm未満の範囲である、超格子構造体。

IPC (7)：

H01G 11/30 ( 201 3.01) ,  C01G 51/00 ( 200 6.01) ,  C01G 53/00 ( 200 6.01) ,  B32B 9/00 ( 200 6.01) ,  H01G 11/32 ( 201 3.01) ,  B82Y 30/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01)

FI (7)：

H01G 11/30 ZNM ,  C01G 51/00 ,  C01G 53/00 A ,  B32B 9/00 A ,  H01G 11/32 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00