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J-GLOBAL ID：201803007218250475

低摩擦化された表面を有する高強度ゲルの製造方法

Inventor： 古川 英光 ,  川上 勝 ,  和田 真人 ,  亀山 敏貴 ,  足立 幸志
Applicant, Patent owner： 国立大学法人山形大学
Agent (8)： 田中 伸一郎 ,  弟子丸 健 ,  ▲吉▼田 和彦 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩 ,  近藤 直樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017022098
Publication number (International publication number)：2018127551
Application date： Feb. 09, 2017
Publication date： Aug. 16, 2018
Summary：

【課題】ゲル材料の表面に潤滑剤などを塗布することなく、比較的容易に高強度ゲルに低摩擦化された表面を付与することができ、低摩擦が要求される用途に使用することのできる低摩擦化された表面を有する高強度ゲルを製造することのできる方法を提供する。【解決手段】高強度ゲルのブロックを作成する工程、高強度ゲルのブロックを加工して、少なくとも1つの面の少なくとも一部の表面粗さを増大させることにより、高強度ゲルのブロックに低摩擦表面を付与する工程を含むことを特徴とする、低摩擦化された表面を有する高強度ゲルの製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

低摩擦化された表面を有する高強度ゲルの製造方法であって、 高強度ゲルのブロックを作製する工程、 前記高強度ゲルのブロックを加工して、少なくとも1つの面の少なくとも一部の表面粗さを増大させることにより、前記高強度ゲルのブロックに低摩擦表面を付与する工程、 を含むことを特徴とする、前記製造方法。

IPC (2)：

C08J 7/00 ,  C08J 3/075

FI (2)：

C08J7/00 Z ,  C08J3/075

F-Term (11)：

4F070AA36 ,  4F070AB13 ,  4F070BA10 ,  4F070BB02 ,  4F070CA13 ,  4F070CA14 ,  4F070CB00 ,  4F073AA06 ,  4F073BA18 ,  4F073BB02 ,  4F073GA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 3Dプリンタ用ゲル材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-142322   Applicant：国立大学法人山形大学
• 高分子ゲル潤滑方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-373894   Applicant：科学技術振興事業団
• 高分子ゲル構造体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-219791   Applicant：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー

Cited by examiner (3)

• 3Dプリンタ用ゲル材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2015-142322   Applicant：国立大学法人山形大学
• 高分子ゲル潤滑方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-373894   Applicant：科学技術振興事業団
• 高分子ゲル構造体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-219791   Applicant：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー