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J-GLOBAL ID：201803012408520642

金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

Inventor： 永井 裕己 ,  佐藤 光史
Applicant, Patent owner： 学校法人 工学院大学
Agent (1)： 特許業務法人太陽国際特許事務所
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2017003674
Publication number (International publication number)：WO2017135330
Application date： Feb. 01, 2017
Publication date： Aug. 10, 2017
Summary：

下記一般式(1)、一般式(2)または一般式(3)で表される金属錯体と、前記金属錯体の対アニオンと、前記金属錯体の溶剤とを含む金属膜形成用組成物。一般式(1)〜一般式(3)中、M1およびM3は、それぞれ独立に、Ag、Cu、Li、Ni、Mn、Zn、およびCoからなる群より選ばれる金属原子を、M3は、Cu、Ni、Mn、およびCoからなる群より選ばれる金属原子をそれぞれ表す。L11〜L32は、それぞれ独立にNH3配位子、R1NH2配位子、OH2配位子、またはジアミン由来の配位子を表し、R1はアルキレン基を表す。1n、1m、3nおよび3mは、それぞれ独立に0〜8の整数を表し、2nおよび2mは、それぞれ独立に0〜4の整数を表し、1n+1mは4〜8の範囲であり、2n+2mは2〜4の範囲であり、3n+3mは2〜8の範囲であり、それぞれ、M1〜M3で表される金属原子の価数に応じて決定される整数を表す。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)、一般式(2)または一般式(3)で表される金属錯体と、前記金属錯体の対アニオンと、前記金属錯体の溶剤とを含む金属膜形成用組成物。

IPC (4)：

C23C 18/08 ,  C23C 18/14 ,  C23C 18/02 ,  C07F 1/08

FI (5)：

C23C18/08 ,  C23C18/14 ,  C23C18/02 ,  C07F1/08 C ,  C07F1/08 B

F-Term (21)：

4G047AA05 ,  4G047AC03 ,  4G048AA01 ,  4G048AA02 ,  4G048AC08 ,  4H048AA01 ,  4H048AA03 ,  4H048AB91 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10 ,  4K022AA03 ,  4K022AA13 ,  4K022BA01 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA15 ,  4K022DA06 ,  4K022DA08 ,  4K022DB04 ,  4K022DB24 ,  4K022EA02