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J-GLOBAL ID：201803013967096466

ヒ素含有水溶液の浄化方法

Inventor： 加賀谷 重浩 ,  天池 夏希 ,  服部 正寛
Applicant, Patent owner： 国立大学法人富山大学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017095979
Publication number (International publication number)：2018192390
Application date： May. 12, 2017
Publication date： Dec. 06, 2018
Summary：

【課題】 ヒ素を含有する水溶液のヒ素濃度を低減するヒ素含有水溶液の浄化方法を提供する。【解決手段】 ヒ素を含有する水溶液に、ジチオカルバミン酸の塩と、鉄(II)又は鉄(III)の塩とを添加した後、固形物を除去する。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

ヒ素を含有する水溶液に、ジチオカルバミン酸の塩と、鉄(II)又は鉄(III)の塩(ただし、ジチオカルバミン酸の塩を除く。)とを添加した後、固形物を除去することを特徴とするヒ素含有水溶液の浄化方法。

IPC (1)：

C02F 1/62

FI (1)：

C02F1/62 Z

F-Term (7)：

4D038AA02 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB87 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D038BB20