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J-GLOBAL ID：201803017012128890

含フッ素錯体化合物、及びこれを用いる含フッ素有機化合物の製造方法

Inventor： 足達 健二 ,  柴沼 俊 ,  永井 隆文 ,  生越 專介 ,  大橋 理人
Applicant, Patent owner： ダイキン工業株式会社 ,  国立大学法人大阪大学
Agent (1)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018029704
Publication number (International publication number)：2018115167
Application date： Feb. 22, 2018
Publication date： Jul. 26, 2018
Summary：

【課題】様々な、テトラフルオロエチレン構造(-CF2-CF2-)の両末端に有機基を有する含フッ素化合物の合成方法の提供。【解決手段】式(1a):R1-CF2-CF2-M1(1a)[式中、M1は、銅、亜鉛、ニッケル、鉄、コバルト、及びスズからなる群より選択される金属を表し;及びR1は、有機基を表す。]で表される含フッ素有機金属化合物、及びピリジン環を有する化合物、及びホスフィンからなる群より選択される配位子を含む含フッ素錯体化合物をハロゲン化合物と反応させる製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(1a): R1-CF2-CF2-M1 (1a) [式中、 M1は、銅、亜鉛、ニッケル、鉄、コバルト、及びスズからなる群より選択される金属を表し;及び R1は、有機基を表す。] で表される含フッ素有機金属化合物、及び ピリジン環を有する化合物、及びホスフィンからなる群より選択される配位子 を含む含フッ素錯体化合物。

IPC (24)：

C07F 1/08 ,  C07C 22/08 ,  C07C 17/26 ,  C07C 43/225 ,  C07C 41/30 ,  C07C 47/55 ,  C07C 45/61 ,  C07C 69/76 ,  C07C 67/307 ,  C07C 255/50 ,  C07C 253/30 ,  C07C 381/00 ,  C07C 39/24 ,  C07C 37/11 ,  C07C 211/52 ,  C07C 209/68 ,  C07C 69/65 ,  C07C 49/233 ,  C07C 57/30 ,  C07F 5/04 ,  C07F 7/12 ,  C07D 213/26 ,  C07D 333/12 ,  C07D 307/89

FI (24)：

C07F1/08 A ,  C07C22/08 ,  C07C17/26 ,  C07C43/225 C ,  C07C41/30 ,  C07C47/55 ,  C07C45/61 ,  C07C69/76 Z ,  C07C67/307 ,  C07C255/50 ,  C07C253/30 ,  C07C381/00 ,  C07C39/24 ,  C07C37/11 ,  C07C211/52 ,  C07C209/68 ,  C07C69/65 ,  C07C49/233 ,  C07C57/30 ,  C07F5/04 C ,  C07F7/12 D ,  C07D213/26 ,  C07D333/12 ,  C07D307/89 Z

F-Term (36)：

4C037RA11 ,  4C055AA01 ,  4C055BA02 ,  4C055BA13 ,  4C055CA01 ,  4C055DA01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB80 ,  4H006AB90 ,  4H006AC30 ,  4H006AC41 ,  4H006AC43 ,  4H006AC44 ,  4H006AC45 ,  4H006AC48 ,  4H006AC52 ,  4H006AC54 ,  4H006AD17 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AB80 ,  4H048AB81 ,  4H048AB90 ,  4H048BB25 ,  4H048BC10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ04 ,  4H049VR24 ,  4H049VS04 ,  4H049VU25 ,  4H049VU31 ,  4H049VV16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特公昭49-010669
  
• 含フッ素ビスフェノール、それらの製造、それらの前駆体及び中間体と含フッ素ビスフェノールの使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-152162   Applicant：バイエルアクチェンゲゼルシャフト
• 液晶性ビニルケトン誘導体およびその重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-198974   Applicant：チッソ石油化学株式会社
• 特開昭50-119841
  
• 五フッ化硫黄化合物及び該化合物を含有する液晶組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-015353   Applicant：セイミケミカル株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• Heptafluorobenzyl bromide
• reductive Dimerization of dithianylium salts and fluorodesulfuration: a new synthetic approach to te
• ADDITION OF FLUORINE TO TOLANES