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J-GLOBAL ID：201803020797637579

含窒素複素環化合物の製造方法

Inventor： 小林 修 ,  ユー ウージン ,  今泉 崇紀 ,  堂野前 等 ,  山根 典之
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 東京大学 ,  新日鐵住金株式会社
Agent (3)： 佐々木 一也 ,  成瀬 勝夫 ,  中村 智廣
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014047821
Publication number (International publication number)：2015172008
Patent number：6289177
Application date： Mar. 11, 2014
Publication date： Oct. 01, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】下記一般式(1)で表されるオルト置換アジ化ベンゼン誘導体を、反応溶媒中還元剤の存在下に二酸化炭素と反応させ、下記一般式(2)で表される含窒素複素環化合物を合成することを特徴とする含窒素複素環化合物の製造方法。

IPC (3)：

C07D 239/96 ( 200 6.01) ,  C07D 265/26 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

C07D 239/96 ,  C07D 265/26 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 糖タンパク質及びグリコシル化細胞及びそれらの調製方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2010-526274   Applicant：グリコム・アクティーゼルスカブ
• イサト酸無水物誘導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-257081   Applicant：鳥居薬品株式会社, 久光製薬株式会社

Cited by examiner (2)

• 糖タンパク質及びグリコシル化細胞及びそれらの調製方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2010-526274   Applicant：グリコム・アクティーゼルスカブ
• イサト酸無水物誘導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-257081   Applicant：鳥居薬品株式会社, 久光製薬株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• Tetrahedron, 1989, Vol.45, No.13, pp.4263-4286

Cited by examiner (1)

• Tetrahedron, 1989, Vol.45, No.13, pp.4263-4286